Jeden z našich vážených zákazníků v polovodičovém průmyslu využívá díly UCT Ham-Let pro svoje distribuční systémy vysoce čistých plynů. Jedná se především o zařízení jako automatické plynové kabinety, ventilové rozdělovací skříně nebo plynové panely. Náš zákazník ve svém moderním výrobním závodě disponujeme i čistými výrobními prostory třídy ISO 6 (Class 1000) pro orbitální svařování.

V polovodičovém výzkumu i výrobě je typické použití extrémně čistých médií v plynném i kapalném skupenství. Aby nedošlo ke znehodnocení nebo úniku těchto extrémně drahých a někdy i nebezpečných médií, je nutné pro stavbu systému využít vysoce kvalitní a spolehlivé díly.

MOCVD (Metalorganic Chemical Vapor Deposition, tedy depozice kovových organických plynů) je technologie, která se používá k výrobě polovodičových vrstev, jako jsou například LED diodové světla, solární články nebo elektronické součástky. MOCVD reaktory jsou zařízení, která slouží k tvorbě těchto vrstev pomocí chemické reakce plynů při vysokých teplotách.

Regulace průtoku je důležitá pro správné fungování MOCVD reaktoru. Ten funguje tak, že je v odpařovací jednotce organokovová sloučenina převedena na plynné skupenství a dále mísena s nosným plynem, který zajistí její depozici na křemíkovém waferu. Tam se sloučenina rozpadá a zanechává za sebou tenkou krystalickou vrstvu. Pro MOCVD proces je využíváno speciální řady přístrojů vyvinutých přímo pro polovodičový trh, skládaných v čistých prostorech s vysokou kvalitou povrchu smáčených částí.