Regulace průtoku v MOCVD reaktorech
MOCVD (Metalorganic Chemical Vapor Deposition, tedy depozice kovových organických plynů) je technologie, která se používá k výrobě polovodičových vrstev, jako jsou například LED diodové světla, solární články nebo elektronické součástky. MOCVD reaktory jsou zařízení, která slouží k tvorbě těchto vrstev pomocí chemické reakce plynů při vysokých teplotách.
Regulace průtoku je důležitá pro správné fungování MOCVD reaktoru. Ten funguje tak, že je v odpařovací jednotce organokovová sloučenina převedena na plynné skupenství a dále mísena s nosným plynem, který zajistí její depozici na křemíkovém waferu. Tam se sloučenina rozpadá a zanechává za sebou tenkou krystalickou vrstvu. Pro MOCVD proces je využíváno speciální řady přístrojů vyvinutých přímo pro polovodičový trh, skládaných v čistých prostorech s vysokou kvalitou povrchu smáčených částí.